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配件组件

特殊图案

我们的衍射光学元件 (DOE) 将标准激光束转换为精确定义的图案,包括多线阵列、网格、取景器、圆圈、十字线和点阵,从而实现先进的结构光应用。这些元件专为 450 nm 至 980 nm 的波长而设计,可在宽光谱范围内提供一致的图案性能。我们的 DOE 以紧凑、易于集成的形式提供可靠的光学精度,是机器视觉、3D 扫描、对准系统和激光瞄准解决方案的理想选择。

产品概述

作为先进光学元件的一流制造商和全球供应商,我们提供专为要求苛刻的工业应用而设计的高精度DOE镜片。这些组件无缝地操纵激光束以实现复杂的强度分布,为批量采购和大规模集成提供无与伦比的效率。

  • 专为极高的精度和高激光损伤阈值而设计。

  • 提供从熔融石英到硒化锌的多种基材。

  • 针对大批量制造和无缝系统集成进行了优化。

产品描述

通过我们精心设计的 DOE镜片 步入激光束操纵的未来。每个元件均采用原始熔融石英和坚固的硒化锌等优质基材制成,拥有光滑、完美的表面,掩盖了蚀刻在其轮廓中的极其复杂的微观结构。当您处理这些组件之一时,您将接触到亚纳米表面粗糙度和绝对结构完整性,旨在承受最严格的工业环境。物理工艺直接转化为完美的光学性能,即使在连续的高功率激光照射下也不会发出可闻的散射或热变形。

通过精确计算的微观步骤来操纵入射光的相位,这些元件将标准高斯光束转换成完全均匀的平顶轮廓、精确的点阵列或复杂的涡旋图案。这消除了对笨重的多透镜折射组件的需求,从根本上解决了工程师在现代光学系统设计中面临的空间限制和对准挑战。您的激光系统变得更轻,可靠性成倍提高,并且能够执行高度复杂的材料加工或传感任务,且精度为零。无论是集成到高速切割头还是精密的诊断设备中,我们的光学元件的无缝集成都能确保您的设备以最高效率运行,从而大大减少维护停机时间并提高您的整体运营产出。

产品规格

波长范围

EUV、DUV、UV、可见光、NIR、MIR、LWIR(10 nm - 2 μm 及以上)

基材材料

熔融石英、Si、Ge、ZnSe、蓝宝石、CaF2、聚合物/塑料、高折射率玻璃

基材尺寸

0.5毫米 - 300毫米

基材厚度

1 毫米 - 50 毫米

涂层选项

电介质,金属

美国能源部类型

分束器、光束整形器/平顶帽、扩散器/均化器、轴棱镜、涡旋相位板、衍射光栅、菲涅尔波带板

表面轮廓

二元、多级、连续剖面

光学 特点

高效率、低零级、亚纳米粗糙度

激光损伤阈值 (LDT)

高损伤阈值(与所选基材材料相当)

主要特点和亮点

我们的光学元件能够对光传播进行前所未有的控制,旨在为您最苛刻的项目带来变革性的优势。通过优先考虑结构完美性和材料纯度,这些组件可确保您的激光系统以最大的空间效率和最小的能量损失运行。这些先进微结构的集成使工程师能够绕过传统光学器件的物理限制,利用单个超薄组件实现复杂的光束整形。

  • 卓越的能量利用率: 最大限度地提高衍射效率,同时主动抑制零级泄漏,确保最大量的激光能量精确地定向到需要的地方。

  • 坚固耐用: 具有极高的激光损伤阈值,即使在强烈、连续波或超快脉冲激光环境下也能保持结构和光学稳定性。

  • 热稳定性: 由热膨胀系数低的材料制成,可防止焦点偏移并在长时间运行周期中保持光束完整性。

  • 节省空间的架构: 超薄的平面设计大大减少了光学组件的占地面积,从而释放了设备外壳内的宝贵空间。

核心功能及产品矩阵

应对现代光学设计的复杂性需要能够执行高度特定任务的多功能组件。我们全面的产品组合提供了一套包罗万象的光束控制解决方案,旨在提升您的系统功能。通过精确改变入射光的相位,这些组件将标准高斯分布无缝转换为几乎任何所需的强度分布,解决了高级处理任务中能量应用不均匀的关键挑战。

  • 精密分束: 轻松地将单个输入光束分成具有完美均匀性的一维或二维阵列,非常适合并行处理应用。

  • 先进的光束整形: 生成完美的平顶(礼帽)或精确的环形轮廓,以确保整个目标区域的能量传输一致。

  • 均匀均匀化: 消除热点和强度峰值,为关键照明和曝光过程创建完美平滑且均匀的光场。

  • 复杂焦点生成: 产生多焦点阵列或复杂的涡旋图案,从而实现复杂的三维材料操纵和先进的光学捕获。

材料多功能性和波长适应性

不同的应用需要高度特定的材料特性,以确保最佳的传输和使用寿命。我们精心选择和加工各种优质基材,以满足您激光系统的确切波长要求。从深紫外到远红外,我们的组件经过精心设计,可消除吸收损失并防止热降解,确保您的设备在整个生命周期内保持最佳性能。

  • 广泛的光谱覆盖范围: 与从极紫外光(193nm 的 EUV)一直到长波红外光(LWIR)的波长完全兼容。

  • 优质熔融石英和蓝宝石: 非常适合高功率紫外线和可见光谱应用,具有原始的透明度和出色的耐热冲击性。

  • 专用红外基板: 采用高级硒化锌 (ZnSe)、硅 (Si) 和锗 (Ge),以保证复杂红外和热成像系统中的最大传输率。

  • 多功能聚合物选项: 为需要快速可扩展性和特定折射特性的应用提供轻质、经济高效的聚合物和塑料基材。

卓越的光学性能和质量控制

光学元件的真正价值在于其在压力下的完美执行和可靠性。利用最先进的微加工和灰度光刻技术,我们实现了亚纳米表面粗糙度,从而定义了行业领先的质量。这种对微观细节的严格关注转化为切实的运营效益,大大减少能源浪费并保护敏感的下游组件免受杂散光损坏。

  • 亚纳米精度: 先进的光刻处理可确保超光滑的表面轮廓,最大限度地减少不必要的散射并增强整体传输。

  • 最大化衍射效率: 旨在将光完美地引导到所需的衍射级,从而显着提高激光源的功能输出。

  • 抑制零级输出: 细致的相位深度控制使零级衍射率保持极低(通常低于百分之一),防止可能损坏工件的中心热点。

  • 工业级 LDT: 拥有与原始基材本身相当的激光损伤阈值,在集成到高瓦数工业激光系统中时可让您绝对放心。

灵活的定制和制造能力

现成的解决方案通常无法满足专业工业机械的严格要求。我们通过提供端到端制造生态系统来弥补这一差距,将您的概念光学设计转变为有形的高性能组件。无论您需要独特的表面轮廓还是特定的尺寸足迹,我们的生产设施都经过优化,可提供精确的规格和毫不妥协的一致性,确保您的供应链保持稳健和响应能力。

  • 端到端开发: 从最初的光学计算和概念设计到快速原型制作和全面量产的全面支持。

  • 高级表面轮廓分析: 能够根据您的精确相位调制要求制造二元、多层或完全连续的表面轮廓。

  • 可扩展的尺寸范围: 适应极其广泛的尺寸范围,从超紧凑的 0.5 毫米微光学元件到大型 300 毫米大幅面基板。

  • 单面和双面结构: 在基板的两侧提供复杂的微结构,将多种光学功能集成到一个单一的、紧密结合的单元中。

系统集成和轻量化优势

现代光学工程的趋势是在不牺牲性能的情况下不懈追求小型化。我们的衍射元件是寻求简化复杂光学系统的工程师的终极解决方案。通过将多个笨重折射镜片的功能浓缩到一个超薄平面中,我们使您能够从根本上重新设计您的设备。这不仅减少了机器的物理占地面积,还消除了与多镜头设置相关的繁琐的对准程序。

  • 超薄架构: 用扁平、轻质的组件取代笨重的球面透镜组件,大大减少移动光学头的总有效负载。

  • 多功能集成: 将光束分离、整形和聚焦功能组合到一个表面中,从而简化您的物料清单和装配过程。

  • 增强的稳定性: 更少的光学元件意味着更少的故障点和更少的对环境振动的敏感性,从而确保长期的对准稳定性。

  • 经济有效的精简: 通过减少所需光学元件的数量并简化机械外壳,整个系统的制造和维护成本显着降低。

尖端行业应用

精确的光控制是推动当今最先进技术领域的隐形引擎。我们的衍射元件深受行业领导者的信赖,能够为精度不容妥协的高风险应用提供支持。通过确保以绝对完美的空间传递激光能量,这些元件可直接提高最终产品的分辨率、速度和可靠性,让您在竞争激烈的技术市场中获得决定性优势。

  • 先进激光材料加工: 对于高精度切割、深熔焊接和微钻孔至关重要,可确保边缘干净和热影响区最小化。

  • 下一代激光雷达和 3D 传感: 为自动驾驶车辆和面部识别系统提供高精度的飞行时间测量和结构光投影。

  • 半导体晶圆检测: 提供微芯片制造关键阶段检测亚微米缺陷所需的完美照明。

  • 医疗和美容激光器: 确保能量分布完全均匀,以实现安全、可预测且高效的皮肤科治疗和外科手术。

  • 高速光学通信: 促进高效的光束复用和路由,提高复杂光纤网络的带宽和可靠性。

为什么选择我们

确保关键光学元件的可靠来源对于保持竞争优势和生产计划至关重要。作为一家专业制造商和全球供应商,我们不仅仅制造光学器件;我们将可靠性融入到合作伙伴关系的各个方面。我们最先进的生产设施受到严格的质量保证协议的管理,确保第一个原型的性能与第万个原型完全相同。我们了解大规模采购的复杂需求,并致力于提供无缝、可扩展的解决方案,推动您的业务向前发展。

  • 坚定不移的质量保证: 每个元件都经过严格的计量和干涉测试,以保证遵守最严格的公差。

  • 强大的供应链: 优化的库存管理和可扩展的生产线确保准时交货,保护您的制造时间表免受破坏性延误。

  • 专家工程支持: 直接联系我们的资深光学工程师团队,以协作解决问题、定制设计优化和快速原型制作。

  • 全球物流专业知识: 在安全包装和运输高度敏感的光学元件到世界各地的设施方面拥有丰富的经验,确保它们到达时处于原始状态。

常见问题 (FAQ)

衍射光学元件与标准折射透镜有何不同?

与依赖玻璃的整体曲率来弯曲光线的标准折射镜片不同,衍射元件利用微观表面浮雕图案来改变光的相位。这样就可以使用完全平坦的超薄基板创建高度复杂的光束形状,例如完美的平顶轮廓或复杂的点阵列,而这在物理上是不可能用单个传统凸透镜或凹透镜实现的。

这些组件能否承受高功率工业激光环境?

绝对地。我们的组件由熔融石英和蓝宝石等优质基材制成,并具有与原材料本身相匹配的工业级激光损伤阈值 (LDT)。由于微结构直接蚀刻到基材中,无需精致的吸收涂层,因此即使在连续高功率运行下,它们也表现出出色的热稳定性和对激光诱导损伤的抵抗力。

典型的衍射效率是多少?如何管理零级泄漏?

通过先进的灰度光刻和精确的蚀刻深度控制,我们始终如一地实现根据您的特定设计轮廓定制的极高衍射效率。零级泄漏(即直接穿过的光束的未衍射部分)被严格抑制。它通常保持在远低于百分之一的水平,确保最大量的能量准确地引导到您所需的功能模式,而不会产生危险的中心热点。

对于在长波红外 (LWIR) 光谱下运行的应用,我应该选择什么基板材料?

对于长波红外应用,我们强烈建议使用硒化锌 (ZnSe) 或锗 (Ge) 等基材。这些材料在远红外光谱中提供卓越的传输特性,与高功率二氧化碳激光器或先进的热成像系统集成时,可大大减少吸收损失并防止热透镜效应。

您是否支持定制表面轮廓以满足高度特定的光束整形要求?

是的,我们专注于将独特的光学要求转化为物理组件。无论您需要二元、多级还是完全连续的表面轮廓,我们的工程团队都将与您密切合作,计算所需的精确相位图。然后,我们利用先进的微加工设施来生产完全符合您的具体规格的元件,从原型无缝扩展到批量生产。


美国能源部编号

描述

设计波长

100 毫米距离时的图案尺寸

(@设计波长)

图案角度

(@设计波长)

最佳波长范围

图像

一个(毫米)

宽(毫米)

直径(毫米)

直径(毫米)

α

β

γ

δ

DOE-198

31 条线,方形

450纳米

72.8

51.5

1.7

51.5

40.0°

28.9°

0.96°

28.9°

425–490 纳米

DOE-213

11 条线,方形

635纳米

76.7

54.4

5.4

54.4

42.0°

30.4°

3.0°

30.4°

530-670纳米

DOE-233

7 线,方形

635纳米

54.0

38.2

6.4

38.2

30.2°

21.6°

3.6°

21.6°

530-670纳米

DOE-250

5 条线(矩形)

660纳米

55.0

10.9

2.7

53.9

30.8°

6.2°

1.6°

30.2°

590-670纳米

DOE-251

7 条线(矩形)

650纳米

15.5

9.0

1.5

12.6

8.9°

5.2°

0.8°

7.2°

590-730纳米

DOE-252

5条线(方形)

635纳米

42.7

30.2

7.5

30.2

24.1°

17.2°

4.3°

17.2°

530 – 670 纳米

DOE-254

25条线(方形)

660纳米

68.4

48.3

2.0

48.3

37.7°

27.2°

1.1°

27.2°

530 – 670 纳米

DOE-284

41 条线(矩形)

660纳米

133.4

104.0

2.6

78.0

67.4°

54.9°

1.4°

42.6°

600 – 700 纳米

DOE-350

15条线(矩形)

520纳米

65.5

42.1

3.0

50.2

36.3°

23.8°

1.7°

28.2°

480 – 550 纳米



特殊图案

美国能源部编号

描述

设计波长

100 毫米距离时的图案尺寸

(@设计波长)

图案角度

(@设计波长)

最佳波长范围

图像

DOE-215

取景器

645纳米

宽度:27 毫米
高度:17.7 毫米
对角线:32 毫米

宽度:15.5°
高度:10.1°
对角线:18.2°

570 – 750 纳米

DOE-234

取景器

(线条广场)

633纳米

宽度:61 毫米
高度:61 毫米
对角线:86 毫米

宽度:34°
高度:34°
对角线:47°

590 – 730 纳米

DOE-260

取景器

(圆圈+十字)

645纳米

十字宽度:37 毫米
圆直径:18.3 毫米

十字宽度:21°
圆直径:10.5°

570 – 750 纳米

DOE-261

取景器

(圆点+十字)

635纳米

十字宽度:11 毫米
圆直径:8.8 毫米
点间距:1.1 毫米

宽度十字:6.3°
圆直径:5°
之间的角度。点:0.63°

570 – 750 纳米

DOE-262

取景器

(圆点正方形)

532纳米

宽度:12.3 毫米
高度:12.3 毫米
对角线:17.4 毫米
点间距:0.5 毫米

宽度:7.0°
高度:7.0°
对角线:10.0°
之间的角度点:0.3°

480 – 670 纳米

DOE-345

取景器

(圆圈+十字)

520纳米

十字宽度:49.9 毫米
圆直径:24.6 毫米

十字宽度:28.0°
圆直径:14.0°

500 – 540 纳米

DOE-394

取景器

520纳米

宽度:65.9 毫米
高度:65.9 毫米
对角线:93.2 毫米

宽度:36.5°
高度:36.5°
对角线:50.0°

500 – 540 纳米

DOE-236

实线正方形

633纳米

宽度:60.2 毫米
高度:60.2 毫米
对角线:85 毫米

宽度:33.5°
高度:33.5°
对角线:46°

530 – 650 纳米

DOE-256

方格

51 x 51 线

660纳米

宽度:39 毫米
高度:39 毫米
对角线:55 毫米
行距:0.77 毫米

宽度:22°
高度:22°
对角线:31°
之间的角度线:0.44°

530 – 660 纳米

DOE-259

5 环

645纳米

宽度:51 毫米
行距:5.1 毫米

宽度:29°
行距:2.8°

530 – 700 纳米

DOE-269

10 环

515纳米

宽度:96.2 毫米
行距:4.8 毫米

宽度:51.4°
行距:2.6°

488 – 532 纳米

DOE-354

方格

10×10线

658纳米

宽度:72.8 毫米
高度:72.8 毫米
对角线:102.9 毫米
行距:8.1 毫米

宽度:40.0°
高度:40.0°
对角线:51.4° 之间
的角度线:4°

620 – 680 纳米

如果 DOE 在与设计波长显着不同 (Δλ > 50 nm) 的激光波长下使用,则大角度图案由于其对称性,会发生几何变形。


笔记:

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